Glimmer痕量分析型超純水系統(tǒng)產(chǎn)品特點

低溶出材料：整機流路采用高純度惰性材料，減少背景污染。

雙柱+中間水質(zhì)傳感器：避免取用到不合格水，保障水質(zhì)穩(wěn)定。

袋式存儲技術(shù)：結(jié)合開放式與壓力式儲水優(yōu)點，避免空氣污染。

耗材芯片管理：自動識別與追溯耗材，引導更換，維護直觀。

物聯(lián)網(wǎng)云平臺：支持手機端遠程查看水質(zhì)、耗材壽命及運行狀態(tài)。

TOC實時在線監(jiān)測：可連續(xù)監(jiān)測總有機碳，確保有機物控制效果。

Glimmer痕量分析型超純水系統(tǒng)產(chǎn)品應用

半導體晶圓制造及封裝檢測

電子特氣、濕電子化學品行業(yè)痕量雜質(zhì)分析

ICP-MS、痕量IC檢測

第三方檢測實驗室超純水需求

高校及科研機構(gòu)痕量分析實驗

Glimmer痕量分析型超純水系統(tǒng)產(chǎn)品參數(shù)

Glimmer痕量分析型超純水系統(tǒng)產(chǎn)品參數(shù)

型號：Glimmer

產(chǎn)地：中國大陸

進水要求：市政自來水，1-6 bar，5-40℃

產(chǎn)水電阻率：18.2 MΩ·cm

TOC：<3 ppb

產(chǎn)水速率：20 L/H

設(shè)備功率：120W

主機尺寸：374×508×538 mm

主機重量：24 kg

儲水容積：40L（標配，更大可選）